本發(fā)明提出的一種光學(xué)鄰近效應(yīng)修正模型的優(yōu)化方法,選出焦距敏感圖形,對焦距敏感圖形使用嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓庾璺抡嫫鬟M(jìn)行模擬獲得其光阻高度數(shù)據(jù),量測出臨界尺寸優(yōu)化光學(xué)鄰近效應(yīng)修正光學(xué)模型和光學(xué)鄰近效應(yīng)修正光阻模型,使得整個模型對由于三維效應(yīng)而失效的圖形有很好的預(yù)測能力,同時相對于嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓庾璺抡嫫髂P途哂懈斓乃俣?,能滿足32nm節(jié)點(diǎn)及更高節(jié)點(diǎn)整個版圖設(shè)計(jì)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正和驗(yàn)證的需求。
聲明:
“光學(xué)鄰近效應(yīng)修正模型的優(yōu)化方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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