權(quán)利要求書： 1.一種電解槽單元，其特征在于，包括一封閉腔室，所述封閉腔室由隔膜(4)分隔為陰極(5)室和陽極室，所述陽極室中可拆卸地安裝微波照射裝置和/或超聲波震蕩裝置；

所述封閉腔室為封閉的筒體；

還包括隔膜(4)架，所述隔膜(4)安裝在所述隔膜(4)架上，所述隔膜(4)架安裝在所述封閉腔室中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解槽單元，其特征在于，所述陽極室中可拆卸地安裝有陽極，所述陽極為筒形陽極。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解槽單元，其特征在于，所述陰極(5)室中安裝有管狀陰極(5)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解槽單元，其特征在于，還包括底座(1)，所述封閉腔室安裝在底座(1)上。

5.一種礦漿電解槽，其特征在于，包括權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的電解槽單元。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的礦漿電解槽，其特征在于，所述電解槽單元的數(shù)量為多個(gè)，其中，部分所述電解槽單元中的所述微波照射裝置的總功率大于另一部分所述電解槽單元中的所述微波照射裝置的總功率。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的礦漿電解槽，其特征在于，所述電解槽單元的數(shù)量為多個(gè)，其中，部分所述電解槽單元中的所述超聲波震蕩裝置的總功率大于另一部分所述電解槽單元中的所述超聲波震蕩裝置的總功率。

8.根據(jù)權(quán)利要求5?7中任一項(xiàng)所述的礦漿電解槽，其特征在于，各個(gè)所述電解槽單元之間通過單元連接管連接，各個(gè)所述電解槽單元之間的單元連接管通過密封螺母(8)連接并密封。

說明書： 電解槽單元和礦漿電解槽技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型屬于電解技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種電解槽單元和礦漿電解槽。背景技術(shù)[0002] 礦漿電解，是將礦石浸出部分，浸出液凈化和電解等過程結(jié)合在一個(gè)裝置中進(jìn)行，向這個(gè)裝置加入礦石，直接從這個(gè)裝置中產(chǎn)出產(chǎn)品。

[0003] 礦漿電解過程，技術(shù)的核心是電解槽，細(xì)磨的礦物以礦漿的形式加入電解槽中，根據(jù)不同的礦物性質(zhì)選擇合適的電解液(如黃銅礦礦漿電解通常采用氯化物電解液體系)。礦

漿電解槽用滲透性隔膜分為陽極區(qū)和陰極區(qū)，礦漿加入陽極區(qū)，金屬在陰極區(qū)析出。電解過

的礦漿經(jīng)液固分離后，電解液返回礦漿電解槽，渣可以進(jìn)一步處理其他有價(jià)成分。

[0004] 現(xiàn)有技術(shù)中，雖然有利用機(jī)械攪拌的方式，使得電解槽中的液體流動(dòng)起來，提高反應(yīng)的均勻性。但是，這種流動(dòng)只能降低化學(xué)反應(yīng)式中一側(cè)的離子濃度，使得反應(yīng)更容易向該

側(cè)進(jìn)行，但也并不能明顯地從根本上提高反應(yīng)速度。

實(shí)用新型內(nèi)容

[0005] 本實(shí)用新型第一方面的目的在于提供電解槽單元，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)提供的礦漿電解槽單元的電解速度低的技術(shù)問題。

[0006] 本方面的實(shí)用新型提供一種電解槽單元，包括一封閉腔室，所述封閉腔室由隔膜分隔為陰極室和陽極室，所述陽極室中可拆卸地安裝微波照射裝置和/或超聲波震蕩裝置。

[0007] 本方面的實(shí)用新型的有益效果是：[0008] 通過在陽極室中，可拆卸地安裝微波照射裝置和/或超聲波震蕩裝置，可以在礦漿電解的同時(shí)，在不同的電解階段對(duì)電解槽內(nèi)的礦漿加入了微波照射裝置，以及超聲波震蕩

裝置，更好的利用率了電解時(shí)陽極區(qū)產(chǎn)生的大量氧化氣體。微波照射使礦漿中的溶液分子

在2.4GHZ的頻率相互摩擦，同時(shí)快速提高礦漿的溫度，大大的提高了礦漿中礦物質(zhì)與溶液

之間的化學(xué)反應(yīng)速度。超聲波震蕩裝置對(duì)礦漿超聲波震蕩，能夠使礦漿在極短的時(shí)間和極

小的空間內(nèi)產(chǎn)生高溫和高壓，同時(shí)產(chǎn)生強(qiáng)電場，從而激發(fā)化學(xué)、力學(xué)、電學(xué)和熱學(xué)等效應(yīng)的

產(chǎn)生。同時(shí)，還能夠有效的打開阻礙礦物質(zhì)浸出的包裹層。根據(jù)不同的礦的性質(zhì)，在礦漿電

解的不同階段對(duì)礦漿進(jìn)行微波照射或者超聲波震蕩，都能非常有效的提高礦石的浸出速度

和金屬的回收率。

[0009] 在可選的實(shí)施方式中，所述封閉腔室為封閉的筒體。[0010] 在可選的實(shí)施方式中，還包括隔膜架，所述隔膜安裝在所述隔膜架上，所述隔膜架安裝在所述封閉腔室中。

[0011] 在可選的實(shí)施方式中，所述陽極室中可拆卸地安裝有陽極，所述陽極為筒形陽極。[0012] 在可選的實(shí)施方式中，所述陰極室中安裝有管狀陰極。[0013] 在可選的實(shí)施方式中，還包括底座，所述封閉腔室安裝在底座上。[0014] 本實(shí)用新型第二方面的目的在于提供一種礦漿電解槽，解決現(xiàn)有技術(shù)提供的礦漿電解槽的電解速度低的技術(shù)問題。

[0015] 本方面的實(shí)用新型提供的礦漿電解槽，包括前述實(shí)施方式中任一項(xiàng)所述的電解槽單元。

[0016] 本方面的實(shí)用新型的有益效果是：[0017] 由于本方面所提供的礦漿電解槽，包括了上述任一項(xiàng)的電解槽單元，因此具有了上述任一項(xiàng)的電解槽單元的技術(shù)效果，在此不再贅述。

[0018] 在可選的實(shí)施方式中，所述電解槽單元的數(shù)量為多個(gè)，其中，部分所述電解槽單元中的所述微波照射裝置的總功率大于另一部分所述分所述電解槽單元中的所述微波照射

裝置的總功率。

[0019] 在可選的實(shí)施方式中，所述電解槽單元的數(shù)量為多個(gè)，其中，部分所述電解槽單元中的所述超聲波震蕩裝置的總功率大于另一部分所述分所述電解槽單元中的所述超聲波

震蕩裝置的總功率。

[0020] 在可選的實(shí)施方式中，各個(gè)所述電解槽單元之間通過單元連接管連接，各個(gè)所述電解槽單元之間的單元連接管通過密封螺母連接并密封。

附圖說明[0021] 為了更清楚地說明本實(shí)用新型具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述

中的附圖是本實(shí)用新型的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性

勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

[0022] 圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的電解槽單元的結(jié)構(gòu)示意圖。[0023] 圖標(biāo)：1?底座；2?封閉腔室；3?下陽極；4?隔膜；5?陰極；6?上陽極；7?上蓋；8?密封螺母；9?導(dǎo)電銅螺桿。

具體實(shí)施方式[0024] 為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描

述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。通常在此處附圖中描述和

示出的本實(shí)用新型實(shí)施例的組件可以以各種不同的配置來布置和設(shè)計(jì)。

[0025] 因此，以下對(duì)在附圖中提供的本實(shí)用新型的實(shí)施例的詳細(xì)描述并非旨在限制要求保護(hù)的本實(shí)用新型的范圍，而是僅僅表示本實(shí)用新型的選定實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的

實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都

屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

[0026] 應(yīng)注意到：相似的標(biāo)號(hào)和字母在下面的附圖中表示類似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步定義和解釋。

[0027] 在本實(shí)用新型的描述中，需要說明的是，術(shù)語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，或者

是該實(shí)用新型產(chǎn)品使用時(shí)慣常擺放的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡

化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和

操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”等僅用于區(qū)

分描述，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。術(shù)語“第一類”、“第二類”、“第三類”等僅用

于區(qū)分，對(duì)于同類的部件或特征統(tǒng)一進(jìn)行描述，意味著該部件或特征的數(shù)量可以是多個(gè)，但

是并不否認(rèn)該部件或特征的數(shù)量可以為一個(gè)。

[0028] 此外，“水平”、“豎直”、“懸垂”等術(shù)語并不表示要求部件絕對(duì)水平或懸垂，而是可以稍微傾斜。如“水平”僅僅是指其方向相對(duì)“豎直”而言更加水平，并不是表示該結(jié)構(gòu)一定

要完全水平，而是可以稍微傾斜。

[0029] 在本實(shí)用新型的描述中，還需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“設(shè)置”、“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，

或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介

間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理

解上述術(shù)語在本實(shí)用新型中的具體含義。

[0030] 下面結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的一些實(shí)施方式作詳細(xì)說明。在不沖突的情況下，下述的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。

[0031] 實(shí)施例一：[0032] 如圖1所示，本實(shí)施例提供一種電解槽單元，包括一封閉腔室2，封閉腔室2由隔膜4分隔為陰極5室和陽極室，陽極室中可拆卸地安裝微波照射裝置(圖中未示出)和/或超聲波

震蕩裝置(圖中未示出)。

[0033] 通過在陽極室中，可拆卸地安裝微波照射裝置和/或超聲波震蕩裝置，可以在礦漿電解的同時(shí)，在不同的電解階段對(duì)電解槽內(nèi)的礦漿加入了微波照射裝置，以及超聲波震蕩

裝置，更好的利用率了電解時(shí)陽極區(qū)產(chǎn)生的大量氧化氣體。微波照射使礦漿中的溶液分子

在2.4GHZ的頻率相互摩擦，同時(shí)快速提高礦漿的溫度，大大的提高了礦漿中礦物質(zhì)與溶液

之間的化學(xué)反應(yīng)速度。超聲波震蕩裝置對(duì)礦漿超聲波震蕩，能夠使礦漿在極短的時(shí)間和極

小的空間內(nèi)產(chǎn)生高溫和高壓，同時(shí)產(chǎn)生強(qiáng)電場，從而激發(fā)化學(xué)、力學(xué)、電學(xué)和熱學(xué)等效應(yīng)的

產(chǎn)生。同時(shí)，還能夠有效的打開阻礙礦物質(zhì)浸出的包裹層。根據(jù)不同的礦的性質(zhì)，在礦漿電

解的不同階段對(duì)礦漿進(jìn)行微波照射或者超聲波震蕩，都能非常有效的提高礦石的浸出速度

和金屬的回收率。

[0034] 在可選的實(shí)施方式中，封閉腔室2為封閉的筒體。具體的，在本實(shí)施例中，可以為兩端封口的圓筒形。更具體的，本實(shí)施例中，在筒形的上端固定連接有上蓋7，上蓋7與筒體密

封連接且固定連接。

[0035] 采用封閉的筒形的結(jié)構(gòu)的封閉腔室2，可以有利于增加腔室中的極板的表面積，提高反應(yīng)速率。而且筒形的結(jié)構(gòu)，受力均勻，也有利于承擔(dān)電解過程中產(chǎn)生氧氣、封閉腔室2內(nèi)

氣壓增大的影響。

[0036] 在可選的實(shí)施方式中，還包括隔膜4架，隔膜4安裝在隔膜4架上，隔膜4架安裝在封閉腔室2中。

[0037] 通過設(shè)置隔膜4架和隔膜4，可以有效地分隔陽極室的礦漿和陰極5室的陰極5液，從而保證了金屬離子在電解槽工作的同時(shí)，由陽極進(jìn)入陰極5，使得陰極5液中金屬離子的

濃度可以維持在預(yù)設(shè)值。

[0038] 在可選的實(shí)施方式中，陽極室中可拆卸地安裝有陽極，陽極為筒形陽極。具體的，陽極可以為圓筒形。

[0039] 通過將陽極以可拆卸的方式安裝在陽極室中，可以在多個(gè)電解槽單元形成礦漿電解槽中，適當(dāng)?shù)貙⒁恍╆枠O替換為微波照射裝置或超聲波震蕩裝置。例如，礦漿由電解槽的

封閉腔室2的下端進(jìn)入電解槽的陽極室，陽極室中上下各安裝一個(gè)圓筒形的陽極，也可只安

裝位于上部的上陽極6或者位于下部的下陽極3。如果取出下陽極3，就可以在陽極室的下部

安裝微波照射設(shè)備，對(duì)陽極室下部進(jìn)行微波照射?；蛘呷〕錾详枠O6，對(duì)陽極室上部的礦漿

進(jìn)行微波照射。這是可以根據(jù)不同情況進(jìn)行調(diào)整的。

[0040] 當(dāng)?shù)V漿進(jìn)入陽極室，含有金屬的細(xì)小礦粒上升速度緩慢，非金屬雜質(zhì)上升速度快。在整個(gè)電解流程過程中，含有金屬的細(xì)小礦粒在電解槽中停留時(shí)間較長，同時(shí)，電解槽陽極

產(chǎn)生的大量有益的氧化氣體和含有金屬的細(xì)小礦粒同時(shí)被微波照射裝置照射或者超聲波

震蕩裝置震蕩，大大提高了氧化氣體和礦物質(zhì)金屬的反應(yīng)速度，縮短反應(yīng)時(shí)間。

[0041] 而且，當(dāng)多個(gè)電解槽單元串聯(lián)形成礦漿電解槽之后，可以根據(jù)礦漿在礦漿電解槽的不同位置處的金屬含量來調(diào)節(jié)氧化氣體的用量，相應(yīng)的，可以選擇在每個(gè)陽極室的上部

或下部設(shè)置微波照射裝置或超聲波震蕩裝置，或在上部和下部都不設(shè)置，以利于以最佳的

功率和速率來在陽極室內(nèi)制造氧化氣體，從而使得該位置或附近的氧化氣體的制造速率能

夠與該位置或附近的氧化氣體的匹配，減少氧化氣體的浪費(fèi)，也降低陽極室中的壓力過大

而產(chǎn)生危險(xiǎn)的可能性。

[0042] 在可選的實(shí)施方式中，陰極5室中安裝有管狀陰極5。[0043] 在陰極5室中安裝管狀陰極5，便于當(dāng)陰極5上的金屬附著滿了之后，將陰極5取出，以便提取陰極5吸附的金屬。

[0044] 在可選的實(shí)施方式中，還包括底座1，封閉腔室2安裝在底座1上。[0045] 通過將封閉腔室2安裝在底座1上，可以實(shí)現(xiàn)封閉腔室2的牢固固定，從而使得電解槽單元保持穩(wěn)定。

[0046] 另外，在封閉腔室2的端部的外側(cè)，還設(shè)有導(dǎo)電銅螺桿9，導(dǎo)電銅螺桿9與陽極室或陰極5室中的陽極或陰極5電連接，或者與陽極室中的微波照射裝置或超聲波震蕩裝置電連

接。

[0047] 實(shí)施例二：[0048] 本實(shí)施例提供的礦漿電解槽，包括前述實(shí)施方式中任一項(xiàng)所述的電解槽單元。[0049] 由于本實(shí)施例所提供的礦漿電解槽，包括了上述任一項(xiàng)的電解槽單元，因此具有了上述任一項(xiàng)的電解槽單元的技術(shù)效果，在此不再贅述。

[0050] 在可選的實(shí)施方式中，電解槽單元的數(shù)量為多個(gè)，其中，部分電解槽單元中的微波照射裝置的總功率大于另一部分電解槽單元中的微波照射裝置的總功率。

[0051] 由于隨著礦漿逐個(gè)通過電解槽單元，礦漿中所裹挾的金屬顆粒的數(shù)量、濃度也隨之發(fā)生變化，到了后期的電解槽單元，其中礦漿中所含有的金屬顆粒的濃度要明顯小于剛

剛進(jìn)入到礦漿金屬槽中的礦漿，所以需要的氧化氣體的濃度也不同于最上游的電解槽單

元。因此，各個(gè)電解槽單元中的氧化氣體的制造速率也會(huì)不同，所以，不僅僅可以采用實(shí)施

例一中介紹的調(diào)整在一個(gè)電解槽單元中設(shè)置多少個(gè)微波照射裝置，實(shí)際上，還可以選用不

同功率的微波照射裝置，以改變每個(gè)電解槽單元中的微波照射的總功率，從而形成合適的

氧化氣體生成速率。而本申請(qǐng)采用了的模塊化的思想，可以在陽極室中根據(jù)需要，相應(yīng)地選

擇設(shè)置陽極、微波照射裝置或超聲波震蕩裝置，提高了礦漿電解槽的效率。

[0052] 在可選的實(shí)施方式中，電解槽單元的數(shù)量為多個(gè)，其中，部分電解槽單元中的超聲波震蕩裝置的總功率大于另一部分電解槽單元中的超聲波震蕩裝置的總功率。

[0053] 由于隨著礦漿逐個(gè)通過電解槽單元，礦漿中所裹挾的金屬顆粒的數(shù)量、濃度也隨之發(fā)生變化，到了后期的電解槽單元，其中礦漿中所含有的金屬顆粒的濃度要明顯小于剛

剛進(jìn)入到礦漿金屬槽中的礦漿，所以需要的氧化氣體的濃度也不同于最上游的電解槽單

元。因此，各個(gè)電解槽單元中的氧化氣體的制造速率也會(huì)不同，所以，不僅僅可以采用實(shí)施

例一中介紹的調(diào)整在一個(gè)電解槽單元中設(shè)置多少個(gè)超聲波震蕩裝置，實(shí)際上，還可以選用

不同功率的超聲波震蕩裝置，以改變每個(gè)電解槽單元中的超聲波震蕩的總功率，從而形成

合適的氧化氣體生成速率。

[0054] 在可選的實(shí)施方式中，各個(gè)電解槽單元之間通過單元連接管連接，各個(gè)電解槽之間的單元連接管通過密封螺母8連接并密封。

[0055] 通過單元連接管連接各個(gè)電解槽單元，并且通過密封螺母8連接和密封，可以實(shí)現(xiàn)快速地連接各個(gè)電解槽單元，當(dāng)一個(gè)電解槽單元發(fā)生故障后，可以利用管道跳過該電解槽

單元以將與其相鄰的電解槽單元連接，并且配之以選擇相應(yīng)的陽極、微波照射裝置或超聲

波震蕩裝置進(jìn)行更換，仍能較為迅速地維持整個(gè)礦漿電解槽的運(yùn)轉(zhuǎn)，避免了礦漿電解槽的

長時(shí)間停機(jī)。

[0056] 最后應(yīng)說明的是：以上各實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述各實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)

理解：其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分或者全部

技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；例如：

[0057] 實(shí)施例二中，所列舉的是改變不同的電解槽單元中的微波照射裝置或超聲波震蕩裝置的總功率，實(shí)際上，當(dāng)電解槽單元中，既設(shè)置微波照射裝置，也設(shè)置超聲波震蕩裝置時(shí)，

可以是微波照射裝置和超聲波震蕩裝置二者功率之和。

[0058] 而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的范圍。