本發(fā)明提供了一種光刻工藝的對(duì)準(zhǔn)方法及其適用的光罩。在本發(fā)明提供的光刻工藝的對(duì)準(zhǔn)方法中,通過在晶圓的刻蝕工藝中的當(dāng)前光罩的切割道版圖上形成至少一獨(dú)立于其已存在的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,然后,光刻機(jī)臺(tái)在對(duì)光罩和晶圓進(jìn)行套刻精度測(cè)量時(shí),利用不受輔助圖形干擾的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,從而可以避免現(xiàn)有技術(shù)中利用附近形成有輔助圖形的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記作為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,而導(dǎo)致的在晶圓的后續(xù)多次刻蝕工藝中,由于晶圓上形成的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖形不清楚,造成的對(duì)準(zhǔn)量測(cè)程序?qū)?zhǔn)失效、對(duì)準(zhǔn)測(cè)量程序人工檢測(cè)工作量大以及刻蝕工藝的工作效率低的問題。
聲明:
“光刻工藝的對(duì)準(zhǔn)方法及其適用的光罩” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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