權(quán)利要求書： 1.一種用于回轉(zhuǎn)窯的窯抄板，所述窯抄板包括：底座，所述底座被配置為固定到回轉(zhuǎn)窯表面；以及主體組件，所述主體組件被可移動地支撐在所述底座上，使得所述主體組件相對于所述底座是可調(diào)整的。

2.如權(quán)利要求1所述的窯抄板，其中所述主體組件包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主體的角取向相對于所述底座是可調(diào)整的。

3.如權(quán)利要求2所述的窯抄板，其中所述抄板主體的所述角取向能夠在最大位置與基本位置之間調(diào)整。

4.如權(quán)利要求3所述的窯抄板，其中所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約

0°至約30°。

5.如權(quán)利要求2所述的窯抄板，其中所述底座包括多個開口，并且其中所述抄板主體包括多個支撐件，每個支撐件能夠在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述抄板主體的所述角取向相對于所述底座是可調(diào)整的。

6.如權(quán)利要求1所述的窯抄板，其中所述主體組件包括高度調(diào)整器，其中所述高度調(diào)整器包括上邊緣，其中從所述上邊緣到所述底座的距離是所述窯抄板的高度，并且其中所述高度調(diào)整器相對于所述底座被可移動地支撐，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

7.如權(quán)利要求6所述的窯抄板，其中所述主體組件還包括抄板主體，并且其中所述高度調(diào)整器被可移動地支撐在所述抄板主體上，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

8.如權(quán)利要求7所述的窯抄板，其中所述抄板主體限定多個高度狹槽，并且其中所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐件能夠在對應(yīng)的高度開口內(nèi)移動，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

9.如權(quán)利要求7所述的窯抄板，其中所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，其中所述第二部分包括所述上邊緣，其中所述第一部分被可滑動地支撐在所述抄板主體上，并且其中所述第二部分和所述第一部分是非共面的。

10.一種回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，所述回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)包括：回轉(zhuǎn)窯，所述回轉(zhuǎn)窯包括內(nèi)窯表面；以及可調(diào)整窯抄板，所述可調(diào)整窯抄板包括：底座，所述底座固定到所述內(nèi)窯表面；以及主體組件，所述主體組件被可移動地支撐在所述底座上，使得所述主體組件相對于所述內(nèi)窯表面是可調(diào)整的。

11.如權(quán)利要求10所述的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述回轉(zhuǎn)窯限定中心軸線，并且其中所述主體組件包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主體相對于所述中心軸線的角取向是可調(diào)整的。

12.如權(quán)利要求11所述的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述抄板主體的所述角取向能夠相對于所述中心軸線在最大位置與基本位置之間調(diào)整，并且其中所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°。

13.如權(quán)利要求11所述的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述主體組件包括高度調(diào)整器，所述高度調(diào)整器包括上邊緣，其中從所述上邊緣到所述內(nèi)窯表面的距離是所述可調(diào)整窯抄板的高度，并且其中所述高度調(diào)整器相對于所述底座被可移動地支撐，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述高度相對于所述內(nèi)窯表面是可調(diào)整的。

14.如權(quán)利要求13所述的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述回轉(zhuǎn)窯限定中心軸線，其中所述主體組件還包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主體相對于所述中心軸線的角取向是可調(diào)整的，并且其中所述高度調(diào)整器被可移動地支撐在所述抄板主體上。

15.如權(quán)利要求11所述的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述底座固定到所述內(nèi)窯表面。

16.如權(quán)利要求11所述的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述可調(diào)整窯抄板是布置在所述內(nèi)窯表面上的多個可調(diào)整窯抄板中的第一可調(diào)整窯抄板，其中所述回轉(zhuǎn)窯包括各自均包括可調(diào)整窯抄板的第一區(qū)和第二區(qū)，其中所述第一區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的角取向或高度不同于所述第二區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的角取向或高度。

17.一種控制回轉(zhuǎn)窯的方法，所述方法包括：將窯抄板的底座支撐在回轉(zhuǎn)窯的內(nèi)窯表面上，其中所述底座牢固地固定到所述內(nèi)窯表面；

將所述窯抄板的主體組件支撐在所述底座上，其中所述主體組件相對于所述底座和所述內(nèi)窯表面是可移動的；以及

通過相對于所述底座移動所述主體組件來調(diào)整所述窯抄板的所述主體組件。

18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中所述窯抄板的高度是所述窯抄板的上邊緣與所述內(nèi)窯表面之間的距離，并且其中調(diào)整所述主體組件包括調(diào)整所述窯抄板的所述高度。

19.如權(quán)利要求17所述的方法，所述方法還包括相對于所述底座調(diào)整所述主體組件的角取向。

20.如權(quán)利要求17所述的方法，其中所述窯抄板是多個窯抄板中的第一窯抄板，其中所述回轉(zhuǎn)窯包括第一區(qū)和第二區(qū)，所述第一區(qū)包括窯抄板，所述第二區(qū)包括窯抄板，并且其中調(diào)整所述主體組件包括將所述第一區(qū)中的窯抄板的角取向或高度調(diào)整到第一取向并且將所述第二區(qū)中的窯抄板的角取向或高度調(diào)整到不同于所述第一取向的第二取向。

說明書： 用于回轉(zhuǎn)窯去涂層器的可調(diào)整窯抄板以及相關(guān)聯(lián)的方法[0001] 相關(guān)申請的引用本申請要求2018年8月7日提交的標題為“ADJUSTABLEKILNLIFTERFORROTARY

KILNDECOATERANDASSOCIATEDMETHODS”的美國臨時申請?zhí)?2/715,333的權(quán)益，該申請

的內(nèi)容在此以引用的方式全文并入。

技術(shù)領(lǐng)域[0002] 本申請涉及回轉(zhuǎn)窯，并且更具體地涉及用于回轉(zhuǎn)窯的可調(diào)整抄板。背景技術(shù)[0003] 回轉(zhuǎn)窯用于各種應(yīng)用，包括但不限于金屬回收、混合、垃圾焚燒、廢料干燥以及各種其他應(yīng)用。作為一個非限制性示例，在諸如回收鋁(包括鋁合金)的金屬回收期間，必須用

去涂層過程去除有機涂層，諸如油漆、清漆等，以防止在回收處理期間發(fā)生劇烈的氣體逸

出。作為去涂層過程的一部分，將金屬廢料在去涂層窯中混合，該去涂層窯是使用回收熱氣

來與金屬廢料交換熱以將涂層從廢料去除的熱力學(xué)熱交換器。窯內(nèi)的窯抄板將廢料抬起并

且然后落下，以將金屬廢料分布在窯內(nèi)來與熱氣進行熱交換并使廢料前進。然而，現(xiàn)有的窯

抄板是焊接到窯筒的實心件，并且因此提供了無法控制窯中的熱氣的熱通量的限制，并且

不能在各種污染水平下針對各種類型的進入廢料進行調(diào)整。

發(fā)明內(nèi)容[0004] 在本專利中使用的術(shù)語“發(fā)明”、“該發(fā)明”、“此發(fā)明”和“本發(fā)明”意圖廣泛地指代本專利和所附專利權(quán)利要求書的所有主題。包含這些術(shù)語的陳述不應(yīng)被理解為限制本文中

描述的主題或限制所附專利權(quán)利要求書的含義或范圍。本專利涵蓋的本發(fā)明的實施方案由

所附權(quán)利要求書而非本發(fā)明內(nèi)容限定。本發(fā)明內(nèi)容是本發(fā)明的各種實施方案的高水平概

述，并且介紹了在以下具體實施方式部分中進一步描述的概念中的一些。本發(fā)明內(nèi)容不意

圖識別所要求保護的主題的關(guān)鍵或本質(zhì)特征，也不意圖用來獨立地確定所要求保護的主題

的范圍。應(yīng)參考本專利的整個說明書的適當部分、任何或所有附圖以及每項權(quán)利要求來理

解本主題。

[0005] 根據(jù)一些示例，一種用于回轉(zhuǎn)窯的窯抄板包括：底座，所述底座被配置為固定到回轉(zhuǎn)窯表面；以及抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主體

的角取向是可調(diào)整的。

[0006] 在某些情況下，所述窯抄板的所述角取向可在最大位置與基本位置之間調(diào)整。在各種方面，所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°。在某些示例中，所

述最大位置與所述基本位置之間的所述差異為從約13°至約15°。根據(jù)各種方面，所述底座

包括多個開口，諸如狹槽，并且所述抄板主體包括多個支撐件，每個支撐件可在對應(yīng)的開口

內(nèi)移動，使得所述抄板主體的所述角取向是可調(diào)整的。

[0007] 在一些示例中，所述窯抄板包括高度調(diào)整器，所述高度調(diào)整器被可移動地支撐在所述抄板主體上，使得所述窯抄板的高度是可調(diào)整的。在各種示例中，所述抄板主體限定多

個高度狹槽，并且所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐件可在對應(yīng)的高度

開口內(nèi)移動，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。在某些示例中，所述高度調(diào)整器被可

滑動地支撐在所述抄板主體上。在一些情況下，所述高度調(diào)整器包括上邊緣，并且從所述上

邊緣到所述底座的距離是所述窯抄板的所述高度。根據(jù)各種方面，所述高度調(diào)整器包括第

一部分和第二部分，其中所述第二部分包括所述上邊緣，所述第一部分被可滑動地支撐在

所述抄板主體上，并且所述第二部分和所述第一部分是非共面的。

[0008] 根據(jù)各種示例，一種用于回轉(zhuǎn)窯的窯抄板包括：底座，所述底座被配置為固定到回轉(zhuǎn)窯表面；以及高度調(diào)整器，所述高度調(diào)整器相對于所述底座被可移動地支撐并包括上邊

緣。從所述上邊緣到所述底座的距離是所述窯抄板的高度，并且所述高度調(diào)整器相對于所

述底座是可移動的，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0009] 在一些方面，所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，其中所述第二部分包括所述上邊緣，并且所述第二部分和所述第一部分是非共面的。在一些情況下，所述窯抄板包

括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主體的角取向是

可調(diào)整的。在各種方面，所述高度調(diào)整器被可移動地支撐到所述抄板主體。根據(jù)某些示例，

所述抄板主體的所述角取向可在最大位置與基本位置之間調(diào)整。在某些情況下，所述最大

位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°，諸如從約13°至約15°。

[0010] 在一些情況下，所述底座包括多個開口，并且所述抄板主體包括多個支撐件，并且每個支撐件可在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述抄板主體的所述角取向是可調(diào)整的。在某些

示例中，所述抄板主體限定多個高度狹槽，并且所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個

高度支撐件可在對應(yīng)的高度開口內(nèi)移動，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。在各種

方面，所述高度調(diào)整器被可滑動地支撐在所述抄板主體上。在某些示例中，所述窯抄板的所

述高度可在最大高度與最小高度之間調(diào)整。

[0011] 根據(jù)某些示例，一種回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)包括：回轉(zhuǎn)窯，所述回轉(zhuǎn)窯包括內(nèi)窯表面并限定中心軸線；以及可調(diào)整窯抄板。所述可調(diào)整窯抄板包括：底座，所述底座固定到所述內(nèi)窯表面；

以及抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主體相對于所

述中心軸線的角取向是可調(diào)整的。

[0012] 在各種情況下，所述抄板主體的所述角取向可相對于所述中心軸線在最大位置與基本位置之間調(diào)整。在某些情況下，所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至

約30°，諸如從約13°至約15°。在某些方面，所述底座包括多個開口，并且所述抄板主體包括

多個支撐件，每個支撐件可在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述抄板主體的所述角取向是可調(diào)

整的。根據(jù)一些方面，所述可調(diào)整窯抄板還包括高度調(diào)整器，并且所述高度調(diào)整器包括上邊

緣。從所述上邊緣到所述內(nèi)窯表面的距離是所述可調(diào)整窯抄板的高度，并且在一些情況下，

所述高度調(diào)整器被可移動地支撐在所述抄板主體上，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述高度是

可調(diào)整的。

[0013] 在一些示例中，所述抄板主體限定多個高度狹槽，并且所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐件可在對應(yīng)的高度開口內(nèi)移動，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述

高度是可調(diào)整的。在一些方面，所述高度調(diào)整器被可滑動地支撐在所述抄板主體上。在各種

示例中，所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，所述第二部分包括所述上邊緣，所述第

一部分被可滑動地支撐在所述抄板主體上，并且所述第二部分和所述第一部分是非共面

的。在某些情況下，所述底座焊接到所述內(nèi)窯表面。

[0014] 在各種方面，所述可調(diào)整窯抄板是布置在所述內(nèi)窯表面上的多個可調(diào)整窯抄板中的第一可調(diào)整窯抄板。根據(jù)一些示例，所述回轉(zhuǎn)窯包括各自均包括可調(diào)整窯抄板的第一區(qū)

和第二區(qū)。在某些情況下，所述第一區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的所述角取向是第一角取向，

并且所述第二區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的所述角取向是不同于所述第一角取向的第二角

取向。

[0015] 根據(jù)一些方面，一種回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)包括：回轉(zhuǎn)窯，所述回轉(zhuǎn)窯具有內(nèi)窯表面；以及可調(diào)整窯抄板，所述可調(diào)整窯抄板包括：底座，所述底座固定到所述內(nèi)窯表面；以及高度調(diào)整

器，所述高度調(diào)整器相對于所述底座被可移動地支撐。所述高度調(diào)整器包括上邊緣，從所述

上邊緣到所述內(nèi)窯表面的距離是所述可調(diào)整窯抄板的高度，并且所述高度調(diào)整器相對于所

述底座是可移動的，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0016] 在某些情況下，所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，所述第二部分包括所述上邊緣，并且所述第二部分和所述第一部分是非共面的。在一些示例中，所述回轉(zhuǎn)窯限定

中心軸線，并且所述可調(diào)整窯抄板還包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述

底座上，使得所述抄板主體相對于所述中心軸線的角取向是可調(diào)整的。在一些情況下，所述

高度調(diào)整器被可移動地支撐到所述抄板主體。

[0017] 根據(jù)一些情況，所述抄板主體的所述角取向可在最大位置與基本位置之間調(diào)整。在某些方面，所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°，諸如從約13°至

約15°。在各種示例中，所述底座包括多個開口，并且所述抄板主體包括多個支撐件，每個支

撐件可在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述抄板主體的所述角取向是可調(diào)整的。在一些方面，所

述抄板主體限定多個高度狹槽，并且所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐

件可在對應(yīng)的高度開口內(nèi)移動，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。在某些情

況下，所述高度調(diào)整器被可滑動地支撐在所述抄板主體上。根據(jù)一些示例，所述可調(diào)整窯抄

板的所述高度可在最大高度與最小高度之間調(diào)整。

[0018] 在某些示例中，所述底座焊接到所述內(nèi)窯表面。根據(jù)各種示例，所述可調(diào)整窯抄板是布置在所述內(nèi)窯表面上的多個可調(diào)整窯抄板中的第一可調(diào)整窯抄板。在一些情況下，所

述回轉(zhuǎn)窯包括各自均包括可調(diào)整窯抄板的第一區(qū)和第二區(qū)。在各種方面，所述第一區(qū)中的

所述可調(diào)整窯抄板的所述高度是第一高度，并且所述第二區(qū)中的可調(diào)整窯抄板的所述高度

是不同于所述第一高度的第二高度。

[0019] 根據(jù)某些情況，一種控制回轉(zhuǎn)窯的方法包括：將窯抄板支撐在底座上，所述底座固定到回轉(zhuǎn)窯的內(nèi)窯表面；以及在將所述窯抄板支撐在所述底座上之后，相對于所述內(nèi)窯表

面調(diào)整所述窯抄板的高度。所述窯抄板的所述高度是所述窯抄板的上邊緣與所述內(nèi)窯表面

之間的距離。

[0020] 在一些情況下，所述方法包括相對于所述底座調(diào)整所述窯抄板的角取向。在各種示例中，調(diào)整所述角取向包括相對于所述底座旋轉(zhuǎn)所述窯抄板的抄板主體。在各種方面，所

述窯抄板是多個窯抄板中的第一窯抄板，并且調(diào)整所述窯抄板的所述高度包括調(diào)整所述多

個窯抄板中的每個窯抄板的所述高度。在某些方面，調(diào)整每個窯抄板的所述高度包括將所

述回轉(zhuǎn)窯的第一區(qū)中的窯抄板調(diào)整到第一高度并且將所述回轉(zhuǎn)窯的第二區(qū)中的窯抄板調(diào)

整到不同于所述第一高度的第二高度。

[0021] 根據(jù)各種方面，一種控制回轉(zhuǎn)窯的方法包括：將窯抄板支撐在底座上，所述底座固定到回轉(zhuǎn)窯的內(nèi)窯表面；以及在將所述窯抄板支撐在所述底座上之后，相對于所述回轉(zhuǎn)窯

的中心軸線調(diào)整所述窯抄板的角取向。

[0022] 在各種示例中，調(diào)整所述角取向包括相對于所述底座旋轉(zhuǎn)所述窯抄板的抄板主體。在一些方面，所述方法包括在將所述窯抄板支撐在所述底座上之后，相對于所述內(nèi)窯

表面調(diào)整所述窯抄板的高度，并且所述窯抄板的所述高度是所述窯抄板的上邊緣與所述內(nèi)

窯表面之間的距離。在一些示例中，所述窯抄板是多個窯抄板中的第一窯抄板，并且調(diào)整所

述窯抄板的所述角取向包括調(diào)整所述多個窯抄板中的每個窯抄板的所述角取向。在各種方

面，調(diào)整所述多個窯抄板中的每個窯抄板的所述角取向包括將所述回轉(zhuǎn)窯的第一區(qū)中的窯

抄板調(diào)整到第一角取向并且將所述回轉(zhuǎn)窯的第二區(qū)中的窯抄板調(diào)整到不同于所述第一角

取向的第二角取向。

[0023] 本公開中描述的各種實現(xiàn)方式可包括附加的系統(tǒng)、方法、特征和優(yōu)點，這些在本文中未必明確地公開，但在查閱以下詳細描述和附圖后，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說將顯

而易見。所有此類系統(tǒng)、方法、特征和優(yōu)點意圖被包括在本公開中并受所附權(quán)利要求書保

護。

[0024] 附圖簡述示出了以下附圖的特征和部件以強調(diào)本公開的一般原理。為了一致和清楚起見，

整個附圖中的對應(yīng)特征和部件可通過匹配附圖標記來指定。

[0025] 圖1是根據(jù)本公開的方面的窯抄板的前透視圖。[0026] 圖2是圖1的窯抄板的后透視圖。[0027] 圖3是圖1的窯抄板的底座的透視圖。[0028] 圖4是根據(jù)本公開的方面的在窯系統(tǒng)的窯上的圖3的底座的透視圖。[0029] 圖5是圖1的窯抄板的抄板主體的透視圖。[0030] 圖6是圖5的抄板主體的前視圖。[0031] 圖7是圖1的窯抄板的高度調(diào)整器的透視圖。[0032] 圖8是圖7的高度調(diào)整器的前視圖。[0033] 圖9是根據(jù)本公開的方面的具有多個窯抄板的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)的截面圖。[0034] 圖10示出了根據(jù)本公開的方面的具有多個窯抄板的窯的端視圖。[0035] 圖11示出了混合廢料的圖10的窯的端視圖。具體實施方式[0036] 這里具體地描述了本發(fā)明的實施方案的主題以滿足法定要求，但此描述不一定意圖限制權(quán)利要求的范圍。所要求保護的主題可通過其他方式體現(xiàn)，可包括不同的要素或步

驟，并且可與其他現(xiàn)有或未來技術(shù)結(jié)合使用。除非明確地描述了各個步驟或要素布置的次

序，否則此描述不應(yīng)被解釋為暗示在各種步驟或要素間或之間的任何特定次序或布置。諸

如“上”、“下”、“頂”、“底”、“左”、“右”、“前”和“后”等的方向性指稱意圖指代如在部件和方

向所參考的一個附圖(或多個附圖)中所示出和描述的取向。

[0037] 在一些方面，公開了一種用于回轉(zhuǎn)窯(諸如去涂層回轉(zhuǎn)窯)的可調(diào)整抄板。可調(diào)整抄板包括底座、抄板主體和高度調(diào)整器。在某些示例中，抄板主體相對于底座是可旋轉(zhuǎn)的，

使得抄板的角取向是可調(diào)整的。在各種方面，高度調(diào)整器相對于底座可直線地移動，使得調(diào)

整器的高度是可調(diào)整的。在某些情況下，抄板主體可移除地附接到底座，使得抄板主體可用

類似或不同的抄板主體替換或更換并且可根據(jù)需要而調(diào)整。通過可調(diào)整抄板，可根據(jù)需要

來控制和調(diào)整材料在回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的駐留時間。

[0038] 圖1至圖8示出了根據(jù)本公開的方面的抄板100的示例。抄板100包括底座102和主體組件101，該主體組件包括抄板主體104和高度調(diào)整器106。主體組件101相對于底座102是

可移動的。在一些示例中，并且如下文詳細地描述，抄板主體104被可旋轉(zhuǎn)地支撐在底座102

上，使得抄板主體104的角取向是可調(diào)整的。在各種方面，并且如下文詳細地描述，高度調(diào)整

器106相對于底座102可直線地調(diào)整，使得抄板100的高度是可調(diào)整的。在其他示例中，抄板

100不必既可旋轉(zhuǎn)地又可直線地調(diào)整(例如，抄板100僅可直線地調(diào)整或僅可旋轉(zhuǎn)地調(diào)整)。

[0039] 在各種示例中，底座102通過各種合適的機構(gòu)固定到回轉(zhuǎn)窯402的內(nèi)表面404，所述合適的機構(gòu)包括但不限于焊接、機械緊固件和各種其他合適的機構(gòu)(參見圖4)。如圖3所示，

底座102限定一個或多個開口，諸如底座狹槽108。底座狹槽108的數(shù)量不應(yīng)被認為是對本公

開的限制。在一些示例中，底座102任選地包括底座凸緣110，并且底座狹槽108被限定在底

座凸緣110上。在其他示例中，底座狹槽108可被限定在底座102上的各種其他位置處。每個

底座狹槽108包括相對的端部112A至112B。在一些情況下，端部112A至112B之間的距離對應(yīng)

于抄板主體104可相對于底座102定位的角取向的范圍。在其他示例中，代替底座狹槽108或

除此之外，可在底座凸緣110上以各種間隔或在底座102上的其他合適的位置處設(shè)置多個開

口。在此類示例中，每個開口可對應(yīng)于抄板主體104相對于底座102的預(yù)限定角取向。在其他

示例中，可利用各種其他角取向調(diào)整機構(gòu)。

[0040] 參考圖1、圖2、圖5和圖6，抄板主體104包括前表面114、后表面116和主體安裝凸緣118。任選地，抄板主體104包括容納底座102的一部分的切口部分126(參見圖2和圖6)，但在

其他示例中，無需包括該切口部分。

[0041] 主體安裝凸緣118將抄板主體104連接到底座102，并且包括一個或多個安裝狹槽或開口，諸如安裝開口120。當被組裝時，每個安裝開口120與底座102的對應(yīng)底座狹槽108的

至少一部分對準。支撐件122可穿過每個對準的安裝開口120和底座狹槽108定位，以將抄板

主體104可旋轉(zhuǎn)地固定到底座102。在底座狹槽108是細長的各種示例中，每個支撐件122可

在相對的端部112A至112B之間移動，以根據(jù)需要來控制和調(diào)整抄板主體104相對于底座102

的角取向。在某些示例中，每個支撐件122包括鎖定機構(gòu)，以在抄板主體104定位在期望的角

取向上時選擇性地維持抄板主體104相對于底座102的位置。在各種方面，支撐件122可為用

于相對于底座102可旋轉(zhuǎn)地支撐抄板主體104的各種支撐機構(gòu)，包括但不限于螺母和螺栓、

銷、卡扣接合或各種其他合適的機構(gòu)。

[0042] 在一些示例中，并且如圖1中的箭頭124所表示，抄板主體104可從基本位置旋轉(zhuǎn)到最大位置(以及在這兩者之間的各種位置)。在某些示例中，在最大位置的抄板主體104相對

于基本位置的角取向為從約0°至約30°，諸如約0°、約1°、約2°、約3°、約4°、約5°、約6°、約

7°、約8°、約9°、約10°、約11°、約12°、約13°、約14°、約15°、約16°、約17°、約18°、約19°、約

20°、約21°、約22°、約23°、約24°、約25°、約26°、約27°、約28°、約29°和/或約30°。在一些示

例中，在最大位置的抄板主體104相對于基本位置的角取向為從約13°至約15°。在其他示例

中，在最大位置的抄板主體104相對于基本位置的角取向可大于30°。

[0043] 如在圖2、圖5和圖6中最佳地示出，在各種示例中，抄板主體104包括一個或多個高度調(diào)整開口，諸如高度調(diào)整狹槽128。每個高度調(diào)整狹槽128包括相對的端部130A至130B。在

一些示例中，端部130A至130B之間的距離對應(yīng)于高度調(diào)整器106可相對于底座102和/或相

對于抄板主體104定位的高度位置的范圍。在其他示例中，代替高度調(diào)整狹槽128或除此之

外，可在抄板主體104上以各種間隔設(shè)置多個開口。在此類示例中，每個開口可對應(yīng)于抄板

100的預(yù)限定高度。在其他示例中，可利用各種其他高度調(diào)整機構(gòu)。

[0044] 參考圖1、圖2、圖7和圖8，高度調(diào)整器106包括前表面132、后表面134、下邊緣136和上邊緣138。在某些示例中，上邊緣138與底座102之間的距離是抄板100的高度。在其他示例

中，當被組裝在窯中時，上邊緣138與窯的內(nèi)表面之間的距離是抄板100的高度。高度調(diào)整器

可相對于底座102和抄板主體104直線地移動，使得抄板100的高度是可調(diào)整的。

[0045] 在一些示例中，高度調(diào)整器106被支撐在抄板主體104上，使得高度調(diào)整器106的后表面134的一部分與抄板主體104的前表面114的一部分重疊(并且任選地鄰接)(參見例如

圖1和圖2)。在其他示例中，高度調(diào)整器106可以各種其他配置被支撐在抄板主體104上。高

度調(diào)整器106包括一個或多個支撐狹槽或開口140。當被組裝時，每個支撐開口140與抄板主

體104的對應(yīng)高度調(diào)整狹槽128的至少一部分對準。支撐件142可穿過每個對準的支撐開口

140和高度調(diào)整狹槽128定位，以將高度調(diào)整器106固定到抄板主體104，同時允許高度調(diào)整

器106相對于抄板主體104的選擇性直線移動。在一些示例中，支撐件142基本上類似于支撐

件122，但在其他示例中，該支撐件無需如此。每個支撐件142可在高度調(diào)整狹槽128的相對

的端部130A至130B之間移動，以根據(jù)需要來控制和調(diào)整抄板100的高度。類似于支撐件122，

每個支撐件142包括鎖定機構(gòu)，以在高度調(diào)整器106定位在期望的高度上時選擇性地維持高

度調(diào)整器106相對于抄板主體104的位置。

[0046] 在一些示例中，并且如圖1中的箭頭144所表示，高度調(diào)整器106可在最小高度與最大高度之間以及在這兩者之間的各種位置之間直線地移動。在某些示例中，最小高度與最

大高度之間的差異為從約0mm至約50mm，諸如約0mm、約1mm、約2mm、約3mm、約4mm、約

5mm、約6mm、約7mm、約8mm、約9mm、約10mm、約11mm、約12mm、約13mm、約14mm、約15

mm、約16mm、約17mm、約18mm、約19mm、約20mm、約21mm、約22mm、約23mm、約24mm、約

25mm、約26mm、約27mm、約28mm、約29mm、約30mm、約31mm、約32mm、約33mm、約34

mm、約35mm、約36mm、約37mm、約38mm、約39mm、約40mm、約41mm、約42mm、約43mm、約

44mm、約45mm、約46mm、約47mm、約48mm、約49mm和/或約50mm。在其他示例中，最小高

度與最大高度之間的差異大于50mm。在一些情況下，最小高度與最大高度之間的差異以是

基于窯的直徑、待處理的材料和/或各種其他因素。

[0047] 如圖1至圖3所示，高度調(diào)整器106任選地包括一個或多個非共面部分。在圖1至圖3的示例中，高度調(diào)整器106包括第一部分146和與第一部分146非共面的第二部分148。在其

他示例中，高度調(diào)整器106可具有單個部分(參見圖9)或多于兩個部分。盡管高度調(diào)整器106

和抄板主體104被示出為平面的或包括平面部件，但高度調(diào)整器106和/或抄板主體104的形

狀不應(yīng)被認為是對本公開的限制。例如，高度調(diào)整器106和/或抄板主體104可為弓形的、波

浪形的、鋸齒形的或者根據(jù)需要而具有各種其他形狀。在其他示例中，高度調(diào)整器106和/或

抄板主體104的不同部分可根據(jù)需要而具有不同形狀。任選地，各種合適的形狀或形狀組合

可用于抄板主體104和/或高度調(diào)整器106，同時仍允許抄板100可旋轉(zhuǎn)和/或可直線地調(diào)整。

[0048] 圖9示出了具有布置在窯902的內(nèi)表面904上的多個抄板100的窯系統(tǒng)900的示例。在某些示例中，窯902基本上類似于窯402。如圖9所示，抄板100中的一些包括具有單個部分

的高度調(diào)整器106，并且其他抄板100包括具有兩個部分146、148的高度調(diào)整器。

[0049] 窯902的內(nèi)表面904限定窯室908。窯902的長度和/或直徑可根據(jù)需要而變化。窯902可圍繞中心軸線906旋轉(zhuǎn)。穿過窯室908的流動路徑大體在中心軸線906的方向上延伸。

在抄板100的角取向是可調(diào)整的一些示例中，每個抄板100的基本位置任選地對應(yīng)于抄板主

體104的前表面面向大體垂直于中心軸線906的方向的位置。在抄板主體104基本上為平面

的任選的示例中，基本位置可對應(yīng)于抄板主體104大體平行于中心軸線906的位置。在其他

示例中，基本位置可相對于中心軸線906處于各種其他取向。

[0050] 在處理期間，隨著窯902旋轉(zhuǎn)，抄板100將窯室908中的廢料抬起并且然后落下。通過抄板100，窯室908中的廢料既圍繞窯902的圓周又沿著窯902的長度分布。廢料的抬起和

落下也使廢料前進通過窯室908。

[0051] 在各種示例中，窯系統(tǒng)900是去涂層窯系統(tǒng)，并且熱氣循環(huán)通過窯室908以與廢料混合并從廢料去除涂層。廢料的去涂層質(zhì)量可能是基于在窯中的駐留時間。在各種示例中，

可通過調(diào)整或控制抄板100的高度和/或抄板100的角取向來控制窯系統(tǒng)900中的廢料駐留

時間。在某些示例中，與具有較小高度的抄板100相比，具有較大高度(即，并且更深入窯室

908中)的抄板100可增加在窯系統(tǒng)900中的駐留時間。在各種示例中，與被定位成對材料通

過窯室908的流動路徑的干擾更少的抄板相比，被可旋轉(zhuǎn)地定位成對該流動路徑的干擾更

多的抄板100可增加在窯系統(tǒng)中的駐留時間。作為每個抄板100的基本位置對應(yīng)于抄板主體

104的前表面面向大體垂直于中心軸線906的方向的位置的一個非限制性示例，與在最大位

置的抄板100相比，在基本位置的抄板100可減少駐留時間。

[0052] 任選地，在一些示例中，窯902包括沿著窯902的長度的一個或多個區(qū)。在一些示例中，控制或調(diào)整所述區(qū)，使得在一個區(qū)中的廢料駐留時間不同于在另一個區(qū)中的廢料駐留

時間。作為一個非限制性示例，一個區(qū)中的抄板100的高度、角位置和/或輪廓可不同于另一

個區(qū)中的抄板100的高度、角位置和/或輪廓。

[0053] 通過可調(diào)整抄板100，可調(diào)整和控制單個窯902，以適應(yīng)可能會有不同的處理要求(例如，由于材料、密度等)的多種類型的廢料(例如，厚規(guī)格碎片、罐頭廢料、汽車廢料、利樂

包廢料、粘結(jié)到箔包裝的紙、口香糖包裝等)。

[0054] 圖10和圖11示出了基本上類似于回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)900的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)1000的另一個示例?；剞D(zhuǎn)窯系統(tǒng)500包括在窯室內(nèi)的抄板100的布置，使得可處理廢料(參見圖11)。

[0055] 還公開了控制回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)900的方法。在一個示例中，該方法包括將抄板100支撐在底座102上，該底座固定到回轉(zhuǎn)窯902的內(nèi)表面904。該方法還包括在將抄板100支撐在底

座102上之后相對于內(nèi)表面904來調(diào)整抄板100的高度和/或抄板100的角取向。在各種示例

中，控制抄板100的高度和/或抄板100的角取向，以控制由窯系統(tǒng)900處理的廢料的廢料駐

留時間。

[0056] 在某些示例中，該方法包括調(diào)整多個抄板100的高度和/或角取向。在一些情況下，調(diào)整多個抄板包括將窯902的第一區(qū)中的抄板100調(diào)整到第一高度和/或第一角取向并且將

窯902的第二區(qū)中的抄板調(diào)整到不同于第一高度的第二高度和/或不同于第一角取向的第

二角取向。

[0057] 根據(jù)本公開的具有窯抄板的回轉(zhuǎn)窯可通過控制窯抄板的至少一個設(shè)置(高度、角度、高度調(diào)整器的類型等)進行調(diào)整和控制，并且相應(yīng)地，可在處理期間更好地適應(yīng)不同類

型的材料。

[0058] 在一些情況下，一個或多個窯抄板的高度是可調(diào)整的。在某些情況下，較短的窯抄板比較高的窯抄板接合更少的廢料。在一些方面，對于更大體積的廢料(即，更低密度的廢

料)，可將窯抄板調(diào)整得更高，而對于更重的廢料(即，更高密度的廢料)，可將窯抄板調(diào)整得

更矮，以便以相同的進料速率進行處理。

[0059] 在各種情況下，一個或多個窯抄板的角度可為可調(diào)整的，以控制通過窯的廢料前進速率和去涂層量。例如，在一些情況下，窯抄板的更小角度可提供通過窯的更快的廢料前

進速率，這意味著廢料在窯內(nèi)的駐留時間更短、熱交換時間更短并且因此可能會發(fā)生更少

的去涂層。相反地，在一些情況下，窯抄板的更大角度可提供通過窯的更慢的廢料前進速

率，這意味著廢料在窯內(nèi)的駐留時間更長、熱交換時間更長并且因此可能會發(fā)生更多的去

涂層。

[0060] 在其他示例中，可調(diào)整和控制抄板主體上的高度調(diào)整器的類型。在某些情況下，高度調(diào)整器的角度或形狀可控制窯內(nèi)的廢料的落點。在各種方面，可控制高度調(diào)整器的角度

或形狀，以在整個窯上實現(xiàn)良好的廢料分布。

[0061] 在各種方面，每個窯抄板的底座、抄板主體和高度調(diào)整器可單獨地或部分地更換?？蓚€別地更換的單獨部件允許響應(yīng)于廢料類型、廢料密度和/或廢料質(zhì)量等的變化而快速

地改變和適應(yīng)抄板的設(shè)置(例如，高度、角度、高度調(diào)整器的類型)。換句話說，根據(jù)廢料類

型、廢料密度和/或廢料質(zhì)量等，可容易地將窯抄板調(diào)整或改變?yōu)樵O(shè)置的各種組合。

[0062] 下文提供了示例性示例的集合，包括明確地列舉為“示例”的至少一些示例，這些示例提供根據(jù)本文中描述的概念的多種示例類型的附加描述。這些示例不意在是相互排斥

的、窮舉性的或限制性的；并且本發(fā)明不限于這些示例性示例，而是涵蓋所發(fā)布的權(quán)利要求

及其等同物的范圍內(nèi)的所有可能的修改和變化。

[0063] 示例1.一種用于回轉(zhuǎn)窯的窯抄板，所述窯抄板包括：底座，所述底座被配置為固定到回轉(zhuǎn)窯表面；以及抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄

板主體的角取向是可調(diào)整的。

[0064] 示例2.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述抄板主體的所述角取向可在最大位置與基本位置之間調(diào)整。

[0065] 示例3.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°。

[0066] 示例4.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述最大位置與所述基本位置之間的所述差異為從約13°至約15°。

[0067] 示例5.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述底座包括多個開口，并且其中所述抄板主體包括多個支撐件，每個支撐件可在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述抄板

主體的所述角取向是可調(diào)整的。

[0068] 示例6.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，所述窯抄板還包括高度調(diào)整器，所述高度調(diào)整器被可移動地支撐在所述抄板主體上，使得所述窯抄板的高度是可調(diào)整的。

[0069] 示例7.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述抄板主體限定多個高度狹槽，并且其中所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐件可在對應(yīng)的高度

開口內(nèi)移動，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0070] 示例8.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述高度調(diào)整器被可滑動地支撐在所述抄板主體上。

[0071] 示例9.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述高度調(diào)整器包括上邊緣，并且其中從所述上邊緣到所述底座的距離是所述窯抄板的所述高度。

[0072] 示例10.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，其中所述第二部分包括所述上邊緣，其中所述第一部分被可滑動地支撐

在所述抄板主體上，并且其中所述第二部分和所述第一部分是非共面的。

[0073] 示例11.一種用于回轉(zhuǎn)窯的窯抄板，所述窯抄板包括：底座；以及高度調(diào)整器，所述高度調(diào)整器相對于所述底座被可移動地支撐并包括上邊緣，其中從所述上邊緣到所述底

座的距離是所述窯抄板的高度，并且其中所述高度調(diào)整器相對于所述底座是可移動的，使

得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0074] 示例12.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，其中所述第二部分包括所述上邊緣，并且其中所述第二部分和所述第一

部分是非共面的。

[0075] 示例13.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，所述窯抄板還包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主體的角取向是可調(diào)整的，其

中所述高度調(diào)整器被可移動地支撐到所述抄板主體。

[0076] 示例14.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述抄板主體的所述角取向可在最大位置與基本位置之間調(diào)整。

[0077] 示例15.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°。

[0078] 示例16.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述最大位置與所述基本位置之間的所述差異為從約13°至約15°。

[0079] 示例17.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述底座包括多個開口，并且其中所述抄板主體包括多個支撐件，每個支撐件可在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述抄

板主體的所述角取向是可調(diào)整的。

[0080] 示例18.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述抄板主體限定多個高度狹槽，并且其中所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐件可在對應(yīng)的高度

開口內(nèi)移動，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0081] 示例19.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述高度調(diào)整器被可滑動地支撐在所述抄板主體上。

[0082] 示例20.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述窯抄板的所述高度可在最大高度與最小高度之間調(diào)整。

[0083] 示例21.一種回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，所述回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)包括：回轉(zhuǎn)窯，所述回轉(zhuǎn)窯包括內(nèi)窯表面并限定中心軸線；以及可調(diào)整窯抄板，所述可調(diào)整窯抄板包括：底座，所述底座固定到所

述內(nèi)窯表面；以及抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主

體相對于所述中心軸線的角取向是可調(diào)整的。

[0084] 示例22.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述抄板主體的所述角取向可相對于所述中心軸線在最大位置與基本位置之間調(diào)整。

[0085] 示例23.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°。

[0086] 示例24.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述最大位置與所述基本位置之間的所述差異為從約13°至約15°。

[0087] 示例25.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述底座包括多個開口，并且其中所述抄板主體包括多個支撐件，每個支撐件可在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述

抄板主體的所述角取向是可調(diào)整的。

[0088] 示例26.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述可調(diào)整窯抄板還包括高度調(diào)整器，所述高度調(diào)整器包括上邊緣，其中從所述上邊緣到所述內(nèi)窯表面的距離

是所述可調(diào)整窯抄板的高度，并且其中所述高度調(diào)整器被可移動地支撐在所述抄板主體

上，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0089] 示例27.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述抄板主體限定多個高度狹槽，并且其中所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐件可在對應(yīng)的

高度開口內(nèi)移動，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0090] 示例28.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述高度調(diào)整器被可滑動地支撐在所述抄板主體上。

[0091] 示例29.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，其中所述第二部分包括所述上邊緣，其中所述第一部分被可滑動地

支撐在所述抄板主體上，并且其中所述第二部分和所述第一部分是非共面的。

[0092] 示例30.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述底座焊接到所述內(nèi)窯表面。

[0093] 示例31.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述可調(diào)整窯抄板是布置在所述內(nèi)窯表面上的多個可調(diào)整窯抄板中的第一可調(diào)整窯抄板。

[0094] 示例32.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述回轉(zhuǎn)窯包括各自均包括可調(diào)整窯抄板的第一區(qū)和第二區(qū)，其中所述第一區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的所述角

取向是第一角取向，并且其中所述第二區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的所述角取向是不同于所

述第一角取向的第二角取向。

[0095] 示例33.一種回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，所述回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)包括：回轉(zhuǎn)窯，所述回轉(zhuǎn)窯包括內(nèi)窯表面；以及可調(diào)整窯抄板，所述可調(diào)整窯抄板包括：底座，所述底座固定到所述內(nèi)窯表面；以及

高度調(diào)整器，所述高度調(diào)整器相對于所述底座被可移動地支撐并包括上邊緣，其中從所述

上邊緣到所述內(nèi)窯表面的距離是所述可調(diào)整窯抄板的高度，并且其中所述高度調(diào)整器相對

于所述底座是可移動的，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0096] 示例34.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，其中所述第二部分包括所述上邊緣，并且其中所述第二部分和所述

第一部分是非共面的。

[0097] 示例35.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述回轉(zhuǎn)窯限定中心軸線，并且其中所述可調(diào)整窯抄板還包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述

底座上，使得所述抄板主體相對于所述中心軸線的角取向是可調(diào)整的，其中所述高度調(diào)整

器被可移動地支撐到所述抄板主體。

[0098] 示例36.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述抄板主體的所述角取向可在最大位置與基本位置之間調(diào)整。

[0099] 示例37.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°。

[0100] 示例38.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述最大位置與所述基本位置之間的所述差異為從約13°至約15°。

[0101] 示例39.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述底座包括多個開口，并且其中所述抄板主體包括多個支撐件，每個支撐件可在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述

抄板主體的所述角取向是可調(diào)整的。

[0102] 示例40.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述抄板主體限定多個高度狹槽，并且其中所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐件可在對應(yīng)的

高度開口內(nèi)移動，使得所述可調(diào)整窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0103] 示例41.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述高度調(diào)整器被可滑動地支撐在所述抄板主體上。

[0104] 示例42.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述可調(diào)整窯抄板的所述高度可在最大高度與最小高度之間調(diào)整。

[0105] 示例43.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述底座焊接到所述內(nèi)窯表面。

[0106] 示例44.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述可調(diào)整窯抄板是布置在所述內(nèi)窯表面上的多個可調(diào)整窯抄板中的第一可調(diào)整窯抄板。

[0107] 示例45.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述回轉(zhuǎn)窯包括各自均包括可調(diào)整窯抄板的第一區(qū)和第二區(qū)，其中所述第一區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的所述高

度是第一高度，并且其中所述第二區(qū)中的可調(diào)整窯抄板的所述高度是不同于所述第一高度

的第二高度。

[0108] 示例46.一種控制回轉(zhuǎn)窯的方法，所述方法包括：將窯抄板支撐在底座上，所述底座固定到回轉(zhuǎn)窯的內(nèi)窯表面；以及在將所述窯抄板支撐在所述底座上之后，相對于所述內(nèi)

窯表面調(diào)整所述窯抄板的高度，其中所述窯抄板的所述高度是所述窯抄板的上邊緣與所述

內(nèi)窯表面之間的距離。

[0109] 示例47.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，所述方法還包括相對于所述底座調(diào)整所述窯抄板的角取向。

[0110] 示例48.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，其中調(diào)整所述角取向包括相對于所述底座旋轉(zhuǎn)所述窯抄板的抄板主體。

[0111] 示例49.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，其中所述窯抄板是多個窯抄板中的第一窯抄板，其中調(diào)整所述窯抄板的所述高度包括調(diào)整所述多個窯抄板中的每個窯抄板

的所述高度。

[0112] 示例50.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，其中調(diào)整每個窯抄板的所述高度包括將所述回轉(zhuǎn)窯的第一區(qū)中的窯抄板調(diào)整到第一高度并且將所述回轉(zhuǎn)窯的第二區(qū)中的

窯抄板調(diào)整到不同于所述第一高度的第二高度。

[0113] 示例51.一種控制回轉(zhuǎn)窯的方法，所述方法包括：將窯抄板支撐在底座上，所述底座固定到回轉(zhuǎn)窯的內(nèi)窯表面；以及在將所述窯抄板支撐在所述底座上之后，相對于所述回

轉(zhuǎn)窯的中心軸線調(diào)整所述窯抄板的角取向。

[0114] 示例52.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，其中調(diào)整所述角取向包括相對于所述底座旋轉(zhuǎn)所述窯抄板的抄板主體。

[0115] 示例53.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，所述方法還包括在將所述窯抄板支撐在所述底座上之后，相對于所述內(nèi)窯表面調(diào)整所述窯抄板的高度，其中所述窯抄板的

所述高度是所述窯抄板的上邊緣與所述內(nèi)窯表面之間的距離。

[0116] 示例54.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，其中所述窯抄板是多個窯抄板中的第一窯抄板，其中調(diào)整所述窯抄板的所述角取向包括調(diào)整所述多個窯抄板中的每個窯抄

板的所述角取向。

[0117] 示例55.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，其中調(diào)整每個窯抄板的所述角取向包括將所述回轉(zhuǎn)窯的第一區(qū)中的窯抄板調(diào)整到第一角取向并且將所述回轉(zhuǎn)窯的第二區(qū)

中的窯抄板調(diào)整到不同于所述第一角取向的第二角取向。

[0118] 示例56.一種用于回轉(zhuǎn)窯的窯抄板，所述窯抄板包括：底座，所述底座被配置為固定到回轉(zhuǎn)窯表面；以及主體組件，所述主體組件被可移動地支撐在所述底座上，使得所述主

體組件相對于所述底座是可調(diào)整的。

[0119] 示例57.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述主體組件包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使得所述抄板主體的角取向相對于所述

底座是可調(diào)整的。

[0120] 示例58.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述抄板主體的所述角取向可在最大位置與基本位置之間調(diào)整。

[0121] 示例59.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述最大位置與所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°。

[0122] 示例60.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述底座包括多個開口，并且其中所述抄板主體包括多個支撐件，每個支撐件可在對應(yīng)的開口內(nèi)移動，使得所述抄

板主體的所述角取向相對于所述底座是可調(diào)整的。

[0123] 示例61.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述主體組件包括高度調(diào)整器，其中所述高度調(diào)整器包括上邊緣，其中從所述上邊緣到所述底座的距離是所述窯抄

板的高度，并且其中所述高度調(diào)整器相對于所述底座被可移動地支撐，使得所述窯抄板的

所述高度是可調(diào)整的。

[0124] 示例62.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述主體組件還包括抄板主體，并且其中所述高度調(diào)整器被可移動地支撐在所述抄板主體上，使得所述窯抄板的所

述高度是可調(diào)整的。

[0125] 示例63.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述抄板主體限定多個高度狹槽，并且其中所述高度調(diào)整器包括多個高度支撐件，每個高度支撐件可在對應(yīng)的高度

開口內(nèi)移動，使得所述窯抄板的所述高度是可調(diào)整的。

[0126] 示例64.如前述或后續(xù)示例中的任一者的窯抄板，其中所述高度調(diào)整器包括第一部分和第二部分，其中所述第二部分包括所述上邊緣，其中所述第一部分被可滑動地支撐

在所述抄板主體上，并且其中所述第二部分和所述第一部分是非共面的。

[0127] 示例65.一種回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，所述回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)包括：回轉(zhuǎn)窯，所述回轉(zhuǎn)窯包括內(nèi)窯表面；以及可調(diào)整窯抄板，所述可調(diào)整窯抄板包括：底座，所述底座固定到所述內(nèi)窯表面；以及

主體組件，所述主體組件被可移動地支撐在所述底座上，使得所述主體組件相對于所述內(nèi)

窯表面是可調(diào)整的。

[0128] 示例66.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述回轉(zhuǎn)窯限定中心軸線，并且其中所述主體組件包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，

使得所述抄板主體相對于所述中心軸線的角取向是可調(diào)整的。

[0129] 示例67.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述抄板主體的所述角取向可相對于所述中心軸線在最大位置與基本位置之間調(diào)整，并且其中所述最大位置與

所述基本位置之間的差異為從約0°至約30°。

[0130] 示例68.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述主體組件包括高度調(diào)整器，所述高度調(diào)整器包括上邊緣，其中從所述上邊緣到所述內(nèi)窯表面的距離是所述

可調(diào)整窯抄板的高度，并且其中所述高度調(diào)整器相對于所述底座被可移動地支撐，使得所

述可調(diào)整窯抄板的所述高度相對于所述內(nèi)窯表面是可調(diào)整的。

[0131] 示例69.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述回轉(zhuǎn)窯限定中心軸線，其中所述主體組件還包括抄板主體，所述抄板主體被可旋轉(zhuǎn)地支撐在所述底座上，使

得所述抄板主體相對于所述中心軸線的角取向是可調(diào)整的，并且其中所述高度調(diào)整器被可

移動地支撐在所述抄板主體上。

[0132] 示例70.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述底座固定到所述內(nèi)窯表面。

[0133] 示例71.如前述或后續(xù)示例中的任一者的回轉(zhuǎn)窯系統(tǒng)，其中所述可調(diào)整窯抄板是布置在所述內(nèi)窯表面上的多個可調(diào)整窯抄板中的第一可調(diào)整窯抄板，其中所述回轉(zhuǎn)窯包括

各自均包括可調(diào)整窯抄板的第一區(qū)和第二區(qū)，其中所述第一區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的角

取向或高度不同于所述第二區(qū)中的所述可調(diào)整窯抄板的角取向或高度。

[0134] 示例72.一種控制回轉(zhuǎn)窯的方法，所述方法包括：將窯抄板的底座支撐在回轉(zhuǎn)窯的內(nèi)窯表面上，其中所述底座牢固地固定到所述內(nèi)窯表面；將所述窯抄板的主體組件支撐

在所述底座上，其中所述主體組件相對于所述底座和所述內(nèi)窯表面是可移動的；以及通過

相對于所述底座移動所述主體組件來調(diào)整所述窯抄板的所述主體組件。

[0135] 示例73.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，其中所述窯抄板的高度是所述窯抄板的上邊緣與所述內(nèi)窯表面之間的距離，并且其中調(diào)整所述主體組件包括調(diào)整所述窯抄

板的所述高度。

[0136] 示例74.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，所述方法還包括相對于所述底座調(diào)整所述主體組件的角取向。

[0137] 示例75.如前述或后續(xù)示例中的任一者的方法，其中所述窯抄板是多個窯抄板中的第一窯抄板，其中所述回轉(zhuǎn)窯包括第一區(qū)和第二區(qū)，所述第一區(qū)包括窯抄板，所述第二區(qū)

包括窯抄板，并且其中調(diào)整所述主體組件包括將所述第一區(qū)中的窯抄板的角取向或高度調(diào)

整到第一取向并且將所述第二區(qū)中的窯抄板的角取向或高度調(diào)整到不同于所述第一取向

的第二取向。

[0138] 上述方面僅是實現(xiàn)方式的可能示例，僅為了清楚地理解本公開的原理而闡述。在基本上不脫離本公開的精神和原理的情況下，可對上述實施方案進行許多變化和修改。所

有此類修改和變化意圖被包括在本公開的范圍內(nèi)，并且對要素或步驟的各方面或組合的所

有可能的權(quán)利要求意圖由本公開支持。此外，盡管在本文中以及在所附權(quán)利要求書中采用

了特定術(shù)語，但這些術(shù)語僅以一般性且描述性意義使用，而非為了限制所描述的發(fā)明或所

附權(quán)利要求書。