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      回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)

      1079   編輯:中冶有色技術(shù)網(wǎng)   來源:寶武炭材料科技有限公司  
      2024-02-22 13:16:45
      權(quán)利要求書: 1.一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),包括回轉(zhuǎn)窯本體,其特征在于,所述回轉(zhuǎn)窯本體內(nèi)設(shè)有與所述回轉(zhuǎn)窯本體軸線平行的燃?xì)夤艿?;所述燃?xì)夤艿涝O(shè)于所述回轉(zhuǎn)窯本體的軸線下方;

      所述燃?xì)夤艿腊ㄅc所述回轉(zhuǎn)窯本體長(zhǎng)度相匹配的第一管道以及延伸出所述回轉(zhuǎn)窯本體的第二管道;

      所述第二管道上設(shè)有燃?xì)忾y門;

      所述第一管道上設(shè)有間距相同的若干個(gè)噴火嘴單元;所述噴火嘴單元之間的間距為5m±0.2m;

      所述噴火嘴單元均包括兩個(gè)噴火嘴,兩個(gè)所述噴火嘴之間的噴火方向呈60°±2°夾角設(shè)置。

      2.如權(quán)利要求1所述的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),其特征在于,所述第一管道通過支撐架設(shè)置在所述回轉(zhuǎn)窯本體內(nèi)。

      3.如權(quán)利要求1所述的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),其特征在于,所述燃?xì)夤艿纼?nèi)通入煤氣或天然氣。

      說明書: 一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型涉及回轉(zhuǎn)窯應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),主要用于回轉(zhuǎn)窯內(nèi)部耐高溫澆注料重新砌筑后的烘窯。背景技術(shù)[0002] 目前回轉(zhuǎn)窯形式的窯體,在內(nèi)部耐火材料(澆注料)局部或全部更換后,需要進(jìn)行逐步升溫脫水,達(dá)到固化溫度后,才能滿足耐高溫的需要。在脫水烘窯階段,熱量不能集中在回轉(zhuǎn)窯內(nèi)某一個(gè)位置,熱量過度集中,易造成受熱不均勻后導(dǎo)致局部澆注料的脫落。傳統(tǒng)回轉(zhuǎn)窯烘窯方式一般采用主火嘴燃燒方式(參見圖3),從常溫開始,逐漸升溫至1000度左右;此種方式存在以下弊端:1、主火嘴的作用主要是給回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的物料加熱,燃料氣體通入量大,火焰長(zhǎng)度與形狀無法有效控制,且火焰容易與窯內(nèi)壁的耐火材料接觸,造成耐火材料直接脫落,導(dǎo)致無法正常生產(chǎn);2、主火嘴的火焰長(zhǎng)度有限,一般不超過5米,因此對(duì)回轉(zhuǎn)窯尾部提供熱量有限,不利于回轉(zhuǎn)窯中部與尾部的加熱(回轉(zhuǎn)窯長(zhǎng)度一般在30米~60米);3、由于火焰呈水平方向噴射,回轉(zhuǎn)窯靠近火嘴下方與后側(cè)的耐火材料無法升溫與脫水,存在烘窯的死角。[0003] 鑒于上述情況,需要設(shè)計(jì)一種新型的烘窯系統(tǒng),能夠杜絕火焰與回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的耐高溫澆注料接觸,同時(shí)使回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的熱量覆蓋整個(gè)回轉(zhuǎn)窯,解決熱量不平衡問題。實(shí)用新型內(nèi)容

      [0004] 針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,本實(shí)用新型目的是提供一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),能夠杜絕火焰與回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的耐高溫澆注料接觸,同時(shí)使回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的熱量覆蓋整個(gè)回轉(zhuǎn)窯,解決熱量不平衡問題。[0005] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用如下的技術(shù)方案:[0006] 一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),包括回轉(zhuǎn)窯本體,所述回轉(zhuǎn)窯本體內(nèi)設(shè)有與所述回轉(zhuǎn)窯本體軸線平行的燃?xì)夤艿?;所述燃?xì)夤艿涝O(shè)于所述回轉(zhuǎn)窯本體的軸線下方;[0007] 所述燃?xì)夤艿腊ㄅc所述回轉(zhuǎn)窯本體長(zhǎng)度相匹配的第一管道以及延伸出所述回轉(zhuǎn)窯本體的第二管道;[0008] 所述第二管道上設(shè)有燃?xì)忾y門;[0009] 所述第一管道上設(shè)有間距相同的若干個(gè)噴火嘴單元;所述噴火嘴單元之間的間距為5m±0.2m;[0010] 所述噴火嘴單元均包括兩個(gè)噴火嘴,兩個(gè)所述噴火嘴之間的噴火方向呈60°±2°夾角設(shè)置。[0011] 優(yōu)選地,所述第一管道通過支撐架設(shè)置在所述回轉(zhuǎn)窯本體上。[0012] 優(yōu)選地,所述燃?xì)夤艿纼?nèi)通入煤氣或天然氣。[0013] 本實(shí)用新型的有益效果為:[0014] 1.本實(shí)用新型的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)通過改變火焰方向,縮短火焰高度,杜絕火焰與耐高溫澆注料接觸;[0015] 2.本實(shí)用新型的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)通過增加噴火嘴數(shù)量,使熱量覆蓋整個(gè)回轉(zhuǎn)窯,解決了回轉(zhuǎn)窯內(nèi)熱量不平衡的問題;[0016] 3.本實(shí)用新型的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)通過調(diào)節(jié)燃?xì)忾y門,實(shí)現(xiàn)逐步升溫的目的。附圖說明[0017] 通過閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述,本實(shí)用新型的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯:[0018] 圖1為本實(shí)施例回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;[0019] 圖2為本實(shí)施例噴火嘴噴火方向的示意圖;[0020] 圖3為傳統(tǒng)的回轉(zhuǎn)窯烘窯示意圖。具體實(shí)施方式[0021] 下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。以下實(shí)施例將有助于本領(lǐng)域的技術(shù)人員進(jìn)一步理解本實(shí)用新型,但不以任何形式限制本實(shí)用新型。[0022] 實(shí)施例[0023] 如圖1-2所示,本實(shí)施例所提供的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),包括回轉(zhuǎn)窯本體1,回轉(zhuǎn)窯本體1內(nèi)設(shè)有與回轉(zhuǎn)窯本體1軸線平行的燃?xì)夤艿?;燃?xì)夤艿?設(shè)于回轉(zhuǎn)窯本體1的軸線下方,包括與回轉(zhuǎn)窯本體1長(zhǎng)度相匹配的第一管道21以及延伸出回轉(zhuǎn)窯本體1的第二管道22;燃燒管道2內(nèi)通入煤氣或天然氣5;第一管道21通過支撐架6設(shè)置在回轉(zhuǎn)窯本體1上;第一管道21上設(shè)有間距相同的若干個(gè)噴火嘴單元4,相鄰的噴火嘴單元4之間的間距為5m±0.2m;噴火嘴單元4均包括兩個(gè)噴火嘴,兩個(gè)噴火嘴之間的噴火方向所形成的夾角α為60°±2°;第二管道

      22上設(shè)有燃?xì)忾y門3,通過控制燃?xì)忾y門3來調(diào)節(jié)火焰的高度,實(shí)現(xiàn)逐步升溫的目的。

      [0024] 本實(shí)施例中的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),采用噴火嘴單元的形式改變了火焰方向,通過控制調(diào)節(jié)燃?xì)忾y門縮短火焰高度,從而杜絕火焰與耐高溫澆注料接觸;通過增加噴火嘴數(shù)量,使熱量覆蓋整個(gè)回轉(zhuǎn)窯,解決了回轉(zhuǎn)窯內(nèi)熱量不平衡的問題;通過調(diào)節(jié)燃?xì)忾y門,實(shí)現(xiàn)逐步升溫的目的。[0025] 綜上所述,上述實(shí)施例僅用于說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制,盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的宗旨和范圍,其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。



      聲明:
      “回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
      我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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