本發(fā)明公開了一種新型高級氧化深度處理裝置,包括并聯(lián)設(shè)置的微電解反應(yīng)池和臭氧反應(yīng)池,其中,微電解反應(yīng)池內(nèi)部設(shè)置有多個平行設(shè)置的固定裝置,用于固定并承載微電解材料;其中,固定裝置包括:承載槽,包括鏤空網(wǎng)狀主體和設(shè)置在承載槽頂部的固定部件,固定部件兩個相對的內(nèi)側(cè)面的頂部設(shè)置有凹槽;鏤空固定槽,頂部設(shè)置有倒“凹”形卡件,與所述凹槽滑動連接。采用網(wǎng)兜式的填料固定裝置,將填料“放入”反應(yīng)池中,當填料出現(xiàn)板結(jié)現(xiàn)象時,更換方便,有效降低人力成本;鏤空式“網(wǎng)兜”可有效增加內(nèi)部填料與廢水的接觸面,承載槽底部的曝氣裝置的設(shè)置可進一步增加反應(yīng)池內(nèi)廢水的流動,從而進一步擴大內(nèi)部填料與廢水的接觸,達到較優(yōu)的處理效果。
聲明:
“新型高級氧化深度處理裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)