本申請?zhí)峁┝艘环N熔融態(tài)金屬純化裝置,涉及金屬純化技術(shù)領(lǐng)域,包括:能夠旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)盤,所述旋轉(zhuǎn)盤頂面上設(shè)置用于放置熔融狀金屬的凹槽,所述凹槽內(nèi)設(shè)置過濾層,所述過濾層將所述凹槽分隔為第一凹槽和第二凹槽。熔融態(tài)的金屬倒入旋轉(zhuǎn)盤上的凹槽中高速旋轉(zhuǎn),在離心力的作用下,熔融態(tài)的金屬中較重的成分向旋轉(zhuǎn)盤外圈移動,較輕的成分留下,從而將熔融態(tài)的金屬分離純化。如此設(shè)置,結(jié)構(gòu)簡單,成本較低,純化流程短,效率較高。
聲明:
“熔融態(tài)金屬純化裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)