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      多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統(tǒng)和終端

      1042   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
      2023-03-18 14:34:08
      本申請公開了供一種多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統(tǒng)和終端,方法,包括如下步驟,S1、接收濃度場分布信息,獲取像素矩陣;S2、利用局部偏差函數(shù)的數(shù)學(xué)類比,對所述像素矩陣進行處理,從像素矩陣中計算并給出實際濃度場中局部矩形區(qū)域的濃度局部差異函數(shù);S3、基于得到的濃度局部差異函數(shù)而計算濃度場分布的單個不均勻系數(shù),并獲取單張圖片中濃度場的整體不均勻系數(shù),基于所述整體不均勻系數(shù)而判斷濃度場的分布不均勻性。本發(fā)明提供的技術(shù)方法能夠?qū)?a href="http://frjcc.com/meet_show-49.html" target="_blank">濕法冶金過程多相混合濃度場分布均勻性進行評價,簡便可靠,且也可以適用于溫度場的均勻性評價。
      聲明:
      “多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統(tǒng)和終端” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
      我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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