本實(shí)用新型公開了一種鎳電積工序中電積槽電積液液位調(diào)節(jié)裝置,涉及
濕法冶金萃取技術(shù)領(lǐng)域,包括電積槽、設(shè)置在電積槽內(nèi)的陰極隔膜室和陽極室,所述陰極隔膜室與外部的新液管道連通,所述電積槽外側(cè)壁頂部設(shè)置有溢流槽,所述溢流槽內(nèi)設(shè)置有高度低于溢流槽邊緣的溢流隔板,溢流隔板把溢流槽分割成了溢流保持槽和溢流調(diào)節(jié)槽,所述陽極室通過電積液U形連通器與溢流保持槽實(shí)現(xiàn)陽極液連通,所述流調(diào)節(jié)槽內(nèi)設(shè)置有與溢流隔板底部活動(dòng)連接的溢流調(diào)節(jié)管,所述溢流調(diào)節(jié)槽底部連接有下液錐體。采用連續(xù)兩個(gè)連通器連接電積槽與下液錐體,增加溢流調(diào)節(jié)管,做到液位的可控可調(diào),改變了原來間斷調(diào)節(jié),手動(dòng)添加擋板調(diào)節(jié)的方式。
聲明:
“鎳電積工序中電積槽電積液液位調(diào)節(jié)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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