本發(fā)明公開了一種堿性蝕刻液及其循環(huán)使用方法,所述堿性蝕刻液包括氯化銅、有機胺、氧化劑、添加劑以及去離子水;每升堿性蝕刻液中氯化銅占10?150g,有機胺占10?200g,氧化劑1?100g,添加劑占1?100g,其余為去離子水。本發(fā)明的堿性蝕刻液,在使用過程中溶液是堿性,對設(shè)備要求不高;使用成本低,操作安全環(huán)保,檢測控制系統(tǒng)簡單;低側(cè)蝕,蝕刻速度快;穩(wěn)定性高。該方法采用膜分離技術(shù)和沉淀還原的技術(shù)相結(jié)合,可以很好的實現(xiàn)蝕刻液的循環(huán)再生利用,反應(yīng)后的產(chǎn)物是氮氣和水,不帶入其它雜質(zhì),過濾沉淀銅后的濾液可以回用于配制新蝕刻液。
聲明:
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