本發(fā)明公開(kāi)了一種均相陰離子交換膜及其制備裝置,具體涉及陰離子交換膜加工技術(shù)領(lǐng)域,包括底座,底座的外壁固定連接有用于固定零部件支撐的第一連接臂,第一連接臂的頂部固定連接有用于緩沖零部件整體晃動(dòng)的第一緩沖套管。本發(fā)明接觸圈的底部與膜體的表面進(jìn)行貼合,在第一安裝槽的內(nèi)部設(shè)置了切刀圈,使用者轉(zhuǎn)動(dòng)接觸圈整體時(shí),接觸圈整體產(chǎn)生滾動(dòng)效果,帶動(dòng)貼合在底部的膜體進(jìn)行位移,位移過(guò)程中,第一安裝槽內(nèi)部的切刀圈對(duì)膜體進(jìn)行切割處理,在接觸圈的內(nèi)部設(shè)置了氣囊平衡塊,接觸圈整體在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中,利用接觸圈內(nèi)部的氣囊平衡塊進(jìn)行適配重量,使得接觸圈整體保持水平狀態(tài),防止接觸圈的底部與膜體過(guò)度接觸,影響膜體裁剪。
聲明:
“均相陰離子交換膜及其制備裝置” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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