本發(fā)明提供一種多孔疊層金屬或合金濺射靶材的制備方法,該方法是以粒度在200目以上的超細(xì)金屬或合金粉末為原料,采用真空冶金技術(shù),經(jīng)過(guò)粉體加壓、燒結(jié)、焊接等步驟制備得到多孔疊層金屬或合金濺射靶材。用本發(fā)明的方法制備的金屬或合金濺射靶材的表面能較大,靶材在被濺射離子束撞擊時(shí)表面的原子很容易被打出,大大減少了原子脫離材料表面需要的能量,可以提高濺射效率和薄膜生產(chǎn)效率。
聲明:
“多孔疊層金屬或合金濺射靶材的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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