本發(fā)明涉及一種非貴金屬氧化物涂層電極的制備方法,包括以閥性金屬為基體,依次在基體上形成貴金屬底層、電沉積制備α-PbO2中間層以及電沉積制備β-PbO2表面層的步驟,基體為網(wǎng)狀,貴金屬底層的形成過程如下:將基體酸蝕刻后,將貴金屬溶液涂覆在所述基體的表面,自然晾干后,在100℃~150℃下干燥10~30分鐘,按此步驟,重復(fù)涂覆和干燥2~10次,再于450℃~500℃下分解1~3小時,自然冷卻至室溫,按照以上步驟,重復(fù)涂覆、干燥和分解至少4~10次,制得貴金屬底層。本發(fā)明提供的電極價格低廉,性能卓越,使用壽命長,特別適于
濕法冶金中應(yīng)用。
聲明:
“非貴金屬氧化物涂層電極的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)