本發(fā)明屬于高溫難熔金屬靶材制備領域,具體涉及一種鉬合金濺射靶材的制備工藝,本發(fā)明采用
粉末冶金方法制備,靶材所用原料包含合計原子百分比0.5%??40%的Ga、Ni、Nd元素組中的至少一種元素和原子比0.5%??40%的Ti作為摻雜金屬,余量為Mo和不可避免的雜質;本發(fā)明經(jīng)過原料配比、原料混合、膠套裝粉定型、冷等靜壓作業(yè)、熱等靜壓作業(yè)、熱軋作業(yè)和機加工作業(yè),得到最終所需產(chǎn)品尺寸;本發(fā)明工藝步驟簡單,操作便捷,制備的鉬合金濺射靶材耐氧化性、耐濕性、與PR膠的粘合力等各項技術指標優(yōu)秀,可滿足高端電子產(chǎn)品鍍膜領域使用需求,且生產(chǎn)成本低,產(chǎn)品尺寸寬泛,便于工業(yè)化批量生產(chǎn)。
聲明:
“鉬合金濺射靶材的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)