本發(fā)明提供的側(cè)擋板等離子體熔覆高熵粉耐磨層的工藝及側(cè)擋板,涉及等離子熔覆技術(shù)領(lǐng)域;其工藝步驟包括:1)對側(cè)擋板和高熵粉基板預(yù)處理;2)根據(jù)熔覆槽的規(guī)格參數(shù)設(shè)定熔覆槽進(jìn)行三層等離子熔覆堆焊時每一層的熔覆厚度和每一層等離子熔覆參數(shù);3)對熔覆槽熔覆后進(jìn)行產(chǎn)品合格檢測;4)對檢測合格的產(chǎn)品低溫回火,消除金屬組織應(yīng)力;本發(fā)明的工藝相較于現(xiàn)有技術(shù)中高熵粉熔覆的區(qū)別在于采用對熔覆槽進(jìn)行多層等離子熔覆,并根據(jù)熔覆槽規(guī)格設(shè)定每一層熔覆的厚度和熔覆堆焊電流;本發(fā)明制得的耐磨層表面有金屬光澤、新增熔覆層無裂紋、焊層間冶金結(jié)合、無氧化過燒現(xiàn)象,耐磨層應(yīng)用于側(cè)擋板顯著延長側(cè)擋板的使用壽命。
聲明:
“側(cè)擋板等離子體熔覆高熵粉耐磨層的工藝及側(cè)擋板” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)