本發(fā)明涉及靶材生產(chǎn)制備領(lǐng)域,具體而言,涉及一種鍺銻碲化合物相變材料濺射靶材生產(chǎn)方法。包括:將質(zhì)量分?jǐn)?shù)為13%~16%的鍺,22%~25%的銻,60%~64%的碲混合,組成原料;對(duì)原料進(jìn)行真空熔煉處理,得到GeSbTe金屬化合物;將GeSbTe金屬化合物進(jìn)行
粉末冶金處理,得到干燥的GeSbTe粉末;將干燥的GeSbTe粉末進(jìn)行真空熱壓燒結(jié)處理,得到鍺銻碲相變材料濺射靶材。本發(fā)明中的鍺銻碲相變材料濺射靶材生產(chǎn)方法,將利用真空熔煉方法,完成鍺銻碲所形成穩(wěn)定化合物制成粉末,使之成分均勻;后將該粉末放入熱壓機(jī)進(jìn)行高壓燒結(jié),形成致密的靶材。用該工藝,解決了粉末成分可能出現(xiàn)不均,或密度不高的技術(shù)問題。
聲明:
“鍺銻碲化合物相變材料濺射靶材生產(chǎn)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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