本發(fā)明公開了一種氮化鈦膜制備方法。本發(fā)明提供的利用真空電弧離子鍍技術(shù)制備的氮化鈦膜,通過對電弧離子鍍技術(shù)中氮分壓逐漸增強的沉積方式進行鍍膜。該工藝方法設(shè)計合理,在
粉末冶金材料GT35上通過克服材料變形、膜層內(nèi)應(yīng)力集中、膜層在銳邊夾角容易崩落、長時間沉積厚膜等的種種難題,解決了氮化鈦硬質(zhì)膜厚度在8μm以上無法制備的現(xiàn)狀,得到了膜層厚度、硬度、結(jié)合力等性能均優(yōu)良的氮化鈦膜。
聲明:
“氮化鈦膜制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)