本實用新型公開了一種用于低溫氯化爐的返泥漿裝置及其低溫氯化爐,屬于冶金生產(chǎn)設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域。提供一種能將收集回來的淋洗、精制泥漿返回爐內(nèi),從而對氯化爐反應(yīng)溫度實現(xiàn)有效控制的用于低溫氯化爐的返泥漿裝置及其低溫氯化爐。所述的返泥漿裝置包括安裝組件和噴射返料組件,所述的噴射返料組件通過所述的安裝組件可拆卸的固裝在所述的低溫氯化爐上,所述噴射返料組件的鈦渣泥漿噴出端伸入所述的低溫氯化爐內(nèi)。布置在所述低溫氯化爐的爐頂上的安裝組件和噴射返料組件均為多組,各組所述的安裝組件一一對應(yīng)的分別與各組所述的噴射返料組件構(gòu)成所述的返泥漿裝置,各組所述返泥漿裝置在所述的爐頂上均布。
聲明:
“用于低溫氯化爐的返泥漿裝置及其低溫氯化爐” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)