本發(fā)明Sm-Co合金非晶磁性納米線陣列的制備方法的技術方案,涉及鈷作主要成分的非晶態(tài)合金,將用100mL去離子水配制得到的摩爾濃度配比為SmCl3·6H2O∶CoCl2·6H2O∶H3BO3∶甘氨酸∶抗壞血酸=0.5~1.8∶2~5∶5~10∶4~8∶3~7的電解沉積液放入專用的Sm-Co合金非晶磁性納米線沉積裝置的電解沉積槽中進行納米線的沉積,再對沉積的Sm-Co合金非晶磁性納米線陣列進行退火處理,制得Sm-Co合金非晶磁性納米線陣列產品。本發(fā)明方法克服了現有技術中Sm-Co合金納米線即Sm-Co合金非晶磁性納米線陣列沉積率低的缺陷。
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