一種多元合金真空蒸餾分離爐用爐底盤(pán),其特征在于,包括爐底盤(pán)體,開(kāi)設(shè)在爐底盤(pán)體上的電極孔,開(kāi)設(shè)在爐底盤(pán)體上的出料口;爐底盤(pán)體內(nèi)部的空腔設(shè)為冷卻倉(cāng)。本實(shí)用新型的有益效果是:通過(guò)水冷散熱方式,對(duì)電極、密封件、絕緣層及爐底盤(pán)進(jìn)行水冷散熱,降低所承受的高溫?zé)崃?,保證了爐底盤(pán)的支撐穩(wěn)定、連接牢固及其它元件不受損壞。底盤(pán)采用圓盤(pán)狀,當(dāng)合金真空蒸餾分離爐處理不同的產(chǎn)品時(shí),出料管的位置可根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行調(diào)整,圓盤(pán)狀的設(shè)計(jì)能滿(mǎn)足它的位置變動(dòng)要求。爐底盤(pán)具有支撐、連接、水冷散熱等多種功能為一體的顯著優(yōu)點(diǎn),并且構(gòu)造簡(jiǎn)單、加工和安裝方便,降低了生產(chǎn)成本,提高了安裝效率。
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“多元合金真空蒸餾分離爐用爐底盤(pán)” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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